リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

位置補正機構付きテストソケット

PRスマホ/車載などのカメラモジュールの光学中心を常に一定の位置に補正する…

安定したコンタクトは安定した生産を実現します。 カメラモジュール用のテストソケットは弊社が最も得意とする分野です。 【特徴】 ・様々な形状のモジュールに合わせた設計が可能 ・FPCやB to Bコネクタに直接コンタクトが可能 量産ラインの自動検査から評価用の製品検査に対応したソケットを提案/提供致します。その他評価、検査でお困りごとがございましたらぜひご相談ください！ ...当...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＫ

大面積イオンビーム照射装置

成膜せずにドーピングで物質の表面を改質！耐摩耗性の向上、耐疲労性の向上…

、イオンビーム電流は 5～50 mA、イオンビーム照射面積は 400mm×400mmです。処理効果は、機械的な特性向上として、耐摩耗性の向上・耐疲労性の向上・摩擦力の減少があげられます。また、電気/光学的な特性の向上としては、電気伝導性・紫外線の遮断などがあります。さらに、化学的な特性の向上としては、親水/疎水性・耐酸化性・耐腐食性・非晶質化などです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

高出力RFイオンソース 「ISG-180」

広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。

広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と安定した放電が可能です。 【特徴】 ○ビーム電流...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

　・低温で低エネルギー照射が可能 　・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】 　・超硬工具用保護膜（c-BN） 　・食品用バリア膜（アルミ） 　・太陽電池用下地膜（アルミ） 　・光学用フィルタ膜（ZrO₂、AI₂O₃等） ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス