2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

ォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉を開発することになりました。 炉の設計技術が社内に無かったので付き合いのある炉メーカに加熱炉の設計・製作を依頼しました。しかし、水漏れが数か月で水漏れが発生しました。加熱炉の電源をオフにしても炉内は煌々と光っており、現場にいた私は生きた心地がしませんでした。 そこで加熱炉の設計を自分で...

メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉

ボンベ真空加熱炉

半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除…

ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます。 ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します。 自動機、手動機など予算に合わせご提案します。 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です（Max200℃）。炉内温度±約1％ 。 ■ボンベ加熱と同時にボンベの安全弁への冷却も可能です。（熱による安全弁の破損防止の為） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

三建産業株式会社　事業紹介

企画からメンテナンスまで一貫システムでお客様のニーズにお応えします

　・スクラップ溶解炉（ロータリースウェットファーネス） 　・保持炉（浸漬管式、トップヒート式） 　・付帯設備 ■アルミ熱処理・加熱設備 　・T2、T4、T5、T6､T7熱処理炉 　・板加熱炉、熱処理炉 　・ビレット調質炉 　・ビレット加熱炉 ■銅熱処理・加熱設備 　・熱処理炉 　・加熱炉 ■鉄鋼用加熱・熱処理設備 　・加熱炉 　・バッチ式熱処理炉 　・連続熱処理炉 ...

メーカー・取り扱い企業： 三建産業株式会社

化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

小型遠赤外線アニール炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 （特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒１０分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度±３℃ ●省スペース化が可能。従来連続炉の３０％ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

CVDコーティング装置

どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

どのような形状の品物に対しても 制限なく使用できる、CVDコーティング装置 【特徴】 ○加熱炉一台にコーティングチャンバーを 　2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な 　自動プロセッサーによって監視され ...

メーカー・取り扱い企業： 中日本炉工業株式会社