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PR各種圧縮ガスから不純な水分を除去するドライヤー
各種ガスドライヤーは、圧縮ガスから水蒸気を連続的に分離するように設計されているため、圧力下露点温度を低下させます。 【効果一例】 二酸化炭素は不活性ガスであり、湿度のレベルによっては腐食性が高くなる可能性があります。 したがって、圧縮二酸化炭素ドライヤー(CO2ドライヤー)は通常、特定のプロジェクト要求を満たすためにカスタムメイドされます。 動作圧力、温度、要求される圧力下露点温度、湿度レベル...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社旭ケミカルス
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置)
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成(水素含有量1%以下)優…
従来に無い水素フリーDLC膜(膜中水素含有量1%以下)を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置(ADMS=アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置) ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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H2(水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…
多用途に実績豊富なプラズマクリーニング装置に新タイプ登場。 従来のプラズマによる表面洗浄機能に加え、水素プラズマによる還元洗浄機能を実現。 今まで以上に表面酸化層の除去能力が向上し、クリーニング後の基板の親水性も大きく向上。 従来と同じプラズマクリーニングにも当然対応。さらに従来のArプラズマクリ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。
● 反応副生成ガスにも対応 カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他 副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン 集合表示灯及びタッチパネル(オプション)、シグナルタワーによりスピーディーに警報を識別可能。 ● 希釈対応が必要なH2、C2H2も処理可能 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部
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ダメージレスで接着性&濡れ性向上!大気圧広幅低温プラズマ処理機
デモ機有り! 初回は無償でサンプル作成いたします。 安価なガスで低温…
取得済みの特殊形状電極を使用することで、従来の表面処理よりも均一な低温プラズマ処理を可能にしました。 電極自体が小型のために既存ラインへの組み込みが容易です。 窒素ガスを媒体とし、酸素や水素等を混合することで様々な用途にご利用いただけます。 ※ヘリウムやアルゴン等の高価なガスは使用しません! 窒素濃度や供給方法によっては窒素ガス単価をかなり安く抑える事ができ、経済的に表面処理を行う...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
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高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の低速イオンビームを照射可能
メインチャンバーのベース圧:1.87×10^-6Pa ノンベークにて *差動排気1か所にTMP50L/s1台で引いた場合 ■差動排気ポート:ICF70 ■イオン化ガス:Ar、He、窒素、酸素、水素、 (SiF4、HC等反応性ガスの場合ご相談ください) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オメガトロン
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真空中でプラズマエネルギーを利用した環境重視の窒化処理についてのご紹介…
、真空中でプラズマエネルギーを利用した 環境重視の窒化処理を行っております。 真空炉中、炉壁と処理品との間で直流電圧をかけると、グロー放電が発生。 グロー放電を起こすための反応ガスとして、水素とガスを使用しています。 励起したプラズマ中に、窒化反応ガスとして窒素ガスを導入すると、 窒素原子は、同様に励起してN+のイオンに変わります。 このN+イオンを処理物の表面に帯電させ、...
メーカー・取り扱い企業: 朝日熱処理工業株式会社
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太平化成株式会社