LDMOSのデバイスとプロセスシミュレーション(LDMOS Device and Process Simulation)

　
■下記YoutubeにてNovaTCADによるシミュレーションの自動処理の動画を公開中！
■試用版のご希望は「試用版お申込フォーム」から
（製品の詳細については、製品紹介の資料をご覧ください） （詳細を見る）

＜主な特徴＞
■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア「APSYS」
■Stanford大学開発のSUPREMをクロスライトが独自に機能拡張した「CSUPREM」
■マスク編集ツール(GDSII可)
■デバイス断面構造の入力・編集ツール
■シミュレーション結果をグラフィカルに表示

＜デバイスシミュレーションのための多様な物理モデルや機能＞
■電流-電圧(I-V)特性
■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布
■流体力学モデルにおけるホット・キャリア温度の2次元分布
■熱輸送モデルで用いられる格子温度の２次元分布
■様々なバイアス条件のもとでのバンド図
■任意の周波数帯における交流微小信号応答解析の結果
■荷電子混合モデルを用いた量子井戸のサブバンド
■半導体中の深いレベルにトラップされた不純物占有数と密度の２次元分布
■光検出器などの光デバイスの２次元光学場分布
■LEDの自己放出スペクトルの電流依存性

■その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。
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