芝浦メカトロニクス株式会社
最終更新日：2018-09-20 15:40:57.0
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多層の光学薄膜に最適
特長■後酸化方式の採用で高生産性を実現■優れた膜厚均一性±１％以下を実現■水平基板搬送による全面スパッタが可能※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
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* 半導体製造装置 * FPD製造装置 * 真空応用装置
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