アーク放電型高真空イオンプレーティング装置

『アーク放電型高真空イオンプレーティング装置』は、極めて緻密で平滑な
硬質膜を形成できるイオンプレーティング装置です。

独自方式によりアルゴンガスを不要とした高真空中での成膜を可能とし、
緻密で高い反応膜の形成を可能としました。

チタン系の膜の形成を主体としておりTiCやTiCNなどの高硬度の膜質と膜の
平滑さにより金型の表面処理に好適です。
自動車部品の金型の表面処理用途に豊富な実績を持っています。

システムは基板の大きさ・形状や処理用によって柔軟にカスタマイズ。
精密加工工具専用小型装置から大型金型対応の大型量産タイプまで
豊富なラインアップを揃えています。

【特長】
■放電用ガスが不要
■平滑な硬質膜が形成可能（成膜後の研摩が不要）
■金メッキ代替の装飾膜が形成可能（金色、グレー、ブラウン）
■金属表面処理・硬質膜以外にも実績あり
　（電子部品用、金属膜、酸化物膜、対応可能）

※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成
半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。
イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。
イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。
独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓 （詳細を見る）