アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社
最終更新日：2019-05-21 18:58:27.0
【日本語版】アドバンスマテリアルズ テクノロジー株式会社 会社案内
基本情報【日本語版】アドバンスマテリアルズ テクノロジー株式会社 会社案内
各種ウェハ径、膜種、膜厚に対応！ご要望に応じたウェハを提供いたします
当社は、次世代半導体開発に必要な各種テストウェハを販売しております。
特に先端のCMP・洗浄・エッチング・TSVの研究開発用の評価用ウェハや
微細パターンウェハを提供。
各種膜質・厚みの変更も承ります。
【業務内容】
■Test Waferの開発と販売
■次世代半導体開発に必要な各種Wafer販売
■Maskのご説明にも迅速に対応できるシステムの構築
■国内外のDevice Makerの成膜Waferの販売
■アメリカ・ヨーロッパ・韓国・台湾などに優秀な調達先を有する
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【パターンウェハ】CD 50nm STI Pattern
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
画像は、HDP、SiN on Si の例になります。
200mm 300mm にて対応可能です。
※MITマスク使用
対応膜種はご希望によりご相談ください。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【CMP用テストウエハ】3D ILD Pattern wafer
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
画像はHDP、SiN on Si の例です。
200mm 300mm にて対応可能です。
対応膜種はご希望によりご相談ください。
高段差のパターンもご用意があり、
CMP研究・開発用途に大変有用です。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【CMP用テストウエハ】CD 50nm STI Pattern
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
近年のデバイスのターゲットサイズに近い幅で
パターンを作ることに成功いたしました。
300mmウェハにて対応可能です。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【CMP用テストウエハ】MIT W pattern Wafer
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
国内マスプロダクションで製造した
デバイスグレートに近いパターンウェハです。
均一性、埋込性ともによくできています。
非常に高品質なテストウェハとなっております。
200mm、300mmにて対応可能です。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【CMP用テストウエハ】MIT STI CMP wafer
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
画像はHDP、SiN on Si の例です。
200mm 300mm にて対応可能です。
※MITマスク使用
対応膜種はご希望によりご相談ください。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【CMP用テストウエハ】Ecu ブランケットウェハ
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
画像はCuブランケットウェハの例です。
7KA、15KAで成膜した時のCross SEMのウェハです。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【CMP用テストウエハ】AMT-S3 MASK Pattern
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
AMTオリジナルのマスクで、
HDPをトップ層にしたパターンウェハです。
均一性、埋込性ともによくできており、研究用途におすすめです。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【パターンウェハ】MIT W pattern Wafer
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
国内マスプロダクションで製造した
デバイスグレートに近いパターンウェハです。
均一性、埋込性ともによくできています。
非常に高品質なテストウェハとなっております。
200mm、300mmにて対応可能です。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【パターンウェハ】MIT STI CMP wafer
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
画像はHDP、SiN on Si の例です。
200mm 300mm にて対応可能です。
※MITマスク使用
対応膜種はご希望によりご相談ください。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【パターンウェハ】3D ILD Pattern
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
画像は、HDP、SiN on Si の例になります。
200mm、300mmにて対応可能です。
対応膜種はご希望によりご相談ください。
高段差のパターンもご用意があります。
CMP研究・開発用途に大変有用です。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【テストウェハ】ブランケットウェハ（300mmウェハ）
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
【対応可能膜種】
Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、
PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、
Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide
■メタル系
Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【テストウェハ】ブランケットウェハ （200mmウェハ）
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、
テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
【対応可能膜種】
Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、
PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、
Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide
■メタル系
Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
【テストウエハの基礎知識】テストウェハとは何か？
テストウェハとは、次世代半導体プロセス開発に必要な
装置・材料の評価用ウェハです。
半導体製造メーカーは日夜、新しいプロセス技術の開発を行い、
人々の生活が豊かになるよう奮闘をしています。
それを支えるのは材料メーカーや半導体装置メーカーであり、
次世代の技術の開発を行うために日々実験や研究を行っています。
そこでは、ウェハ上のプロセスの均一性を向上させるために、
実際のウェハを使用したデータ収集が必須です。
弊社では、次世代半導体開発の為のテストウェハをお客様の希望に沿う
『カスタムメイド』という形で製造し、販売いたしております。
テスト用ウェハの中でも特に、成膜、CMP、洗浄、エッチング、TSVの
研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。
※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。 （詳細を見る）
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