イオン注入装置のラインナップ

室温でのイオン注入はもちろん、世界で数社のみが対応可能な高温でのイオン注入では、トップレベルの技術力と設備を誇ります。

弊社では、チップ小片から300ｍｍ（12インチ）径ウエハまで多種多様なサンプル及び、お客様からのご要望に合わせて各種条件での注入処理が可能です。注入条件は10～8,000KeVまで、室温から高温加熱（600℃）まで、イオン種は約60種の対応が可能です。 （詳細を見る）

弊社のイオン注入サービスは装置を多数所有しているため、多種多様なニーズにお応えすることが可能です。

【特徴】
・約60種の多様なイオン種に対応
・小片から300mm（12インチ）まで幅広いサイズに対応
・半導体はもちろん有機物などへの対応も可能
・室温~600℃までの高温注入へ対応

【その他】
・イオン注入のシュミュレーションにも対応しております。
・高温アニール含めイオン注入前後工程のご相談ください。
・イオン注入評価を中心に受託分析も対応しております。 （詳細を見る）