枚葉式常圧CVD装置『A200V』

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm
ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。

フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル
制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。

また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。

【特長】
■フェイスダウンポジション
■コンパクトな装置デザイン・構成
■メンテナンス性と高い生産性の両立
■優れた膜厚均一性と埋め込み性
■オペレーターが加熱部分に直接接触しないよう安全性を確保

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）