ALD/OER成膜装置

『ALD/OER成膜装置』は、先端技術で必要とされる原子レベルの
緻密な成膜(ALD)を独自の技術で実現した装置です。

半導体やディスプレイの封止、2次電池の部品や自動車部品など
幅広い分野への応用が期待できます。

※OER=株式会社明電舎独自技術：
　Ozone-Ethylene Radical generation technologyの略

【特長】
■シャワーヘッド型で「均一性」、「高速成膜」、
　「原料ガス・電力の省エネ」を実現
■単層膜でハイバリアを実現
　(膜厚40nmで水蒸気透過率10-5達成)

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