JSWアフティ株式会社
最終更新日：2023-01-23 09:46:15.0
AFALD-8
原子層堆積装置『AFALD-8』
『AFALD-8』は、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜が
できる原子層堆積装置です。
ミリ秒単位で高品質な薄膜成膜が可能なため、低ダメージで安定した成膜を
実現。
操作性に優れたソフトウェアや、自由度の高いオプション構成ができます。
【特長】
■段差被覆性
■高精密な膜厚制御
■ピンホールフリー
■低ダメージ
■原料コスト削減
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 （詳細を見る）
取扱会社 AFALD-8
■ナノエレクトロニクス技術、オプトエレクトロニクス技術およびメカトロニ クス技術の先端技術を応用した各種装置の設計、製造、販売、検査、据付、 修理、点検、保守部品供給、中古装置の斡旋業務および、これに付帯する業務
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