真空チャンバーが不要!ローコストで薄膜を形成できます。
真空チャンバーが不要!ローコストで薄膜を形成できます。
基本情報大気圧下の新規燃焼化学蒸着
オーウエル株式会社はナノテク開発の米国エヌジマット社と技術提携し、蒸着を大気中でできる「CCVD(燃焼化学蒸着)」という薄膜形成技術を導入しました。この技術により電気絶縁膜や透明導電膜、ガスバリアー膜、撥水膜、抗菌膜等をローコストで形成することが出来ます。従来にない化学蒸着方法をご紹介し、貴社の研究開発に貢献いたします。
価格情報 | - |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | 【特長】 ・大気中で蒸着が可能 ・高価な真空機器や排ガス処理装置が不要で、製造コストや環境負荷を低減 ・連続処理や大面積化への対応が容易 ・多種類で安価な原料が使え、金属化合物(酸化物等)や金属をコーティング ・膜形状、膜質、化学組成等の制御が容易 ・樹脂や立体物にも蒸着可能 【用途・業界】 ・電気電子分野(電池、キャパシタ等) ・通信分野(フェーズシフター等) ・医療業界(センサー等) など、多様な業界で適用が可能です。 ★詳しくは、資料のご請求、カタログダウンロードよりご確認ください。 |
カタログ大気圧下の新規燃焼化学蒸着
取扱企業大気圧下の新規燃焼化学蒸着
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