自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズリソテックジャパン

塗布ユニット/現象ユニット搭載。2''～8''ウェーハの簡易切換え可。

自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズは弊社独自に、研究開発用途から量産用途まで、ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能な装置開発を進めてきたレジスト塗布・現像・ベーク装置です。お客様のご要望に適応した自由度の高い設計に努め、もはや仕様のカスタマイズは特別注文ではないという設計思想が、多くのお客様からご好評をいただいております。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

関連リンク - https://www.ltj.co.jp/coaterdeveloper.php?eid=0000…

基本情報自動レジスト塗布・現像・ベーク装置LITHOTRACシリーズ

【主な特徴】
○塗布ユニット/現象ユニット搭載
○2''～8''ウェーハの簡易切換え可
○高粘度レジスト毎に仕様を提案
○研究開発用途及び量産の両方に対応した仕様
○300mmウェーハFOUP対応

【その他の特徴】
○モデルCB-50（全自動コーター・ベーク） →塗布精度の向上を目的としたオプションとして、塗布室の雰囲気温湿調、
　レジスト温調、スピンモータ温調などの各種温度制御機器を搭載することが可能です。
○モデルDB-50（全自動現像ベーク）
→現像精度の向上を目的としたオプションとして、現像液温調、スピンモータ温調などの各種温度制御機器を搭載することが可能です。
○モデルDual-1000（全自動コーター・現像・ベーク装置）
→モデルCB-50とDB-50を１台にまとめました。

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

価格情報	お問い合わせください
納期	お問い合わせください ※お問い合わせください
用途／実績例	●詳しくはカタログをご覧頂くか、お問い合わせください。