株式会社クリスタル光学 『鏡面研磨技術』技術紹介
- 最終更新日：2020-03-23 17:02:23.0
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株式会社クリスタル光学は、鏡面研磨技術を保有しております。
単結晶から金属・セラミック・樹脂まで、さまざまな材料をナノ
レベルで仕上げる表面仕上げにて対応いたします。
これまで多種多様な材料を仕上げできた豊富な実績の元、自信を持って
ご提供いたしますので、お気軽にご相談下さい。
【特長】
■ナノレベルの表面仕上げ
■さまざまな最良に対応
■材料実績が豊富
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報『鏡面研磨技術』技術紹介
【材料実績】
■単結晶
・NaCl
・KBr
・KCl
・CsI
・CsBr 他
■金属
・ステンレス
・アルミニウム
・銅
・チタン
・モリブデン 他
■非金属
・セラミックス：SiC、アルミナ、ジルコニア、YAGカーボン、石
・ガラス：石英、BK7、青板、白板、ゼロデュア 他
・樹脂：アクリル、PEEK、PVC、MCナイロン、テフロン 他
■表面処理層
・アルマイト
・Ni(ニッケルめっき)
・Ni-P(無電会ニッケル-リンめっき)
※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ『鏡面研磨技術』技術紹介
取扱企業『鏡面研磨技術』技術紹介
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5つのフィールドで先端技術をささえます。 ●切削加工(アルミ･銅･ステンレス・樹脂、他) ●研削加工(アルミ･銅･ステンレス・ガラス、樹脂、他) ●研磨加工（アルミ、ステンレス・金属・セラミック・新素材・光学結晶etc） ●超精密加工(形状:自由曲面・平面・球面・軸外し 材質:アルミ・銅・Ni-P) ●測定(三次元測定・形状測定・面粗さ測定・他) ※表面処理(不動態化処理・電解研磨 材質:半導体素材)も行っております。 大型高精度加工を得意とし、８000mmの５面加工機をはじめ、4000mmの超高精度平面研削盤、3200mmφのラップ盤で対応いたします。 また、一貫生産の最終工程においても世界トップクラスの測定精度を誇るカールツァイス製三次元座標測定器(6000mmサイズ)にて、高精度を保証いたします。 ●主な加工 ダイ、ノズル、自由曲面ミラー、非球面ミラー、マスフローコントローラー、光学単結晶研磨加工、プレート、テーブル、ベッド、ステージ、他 半導体分野、液晶・フィルム・電池分野、光学分野、など様々な分野を対象とした加工を行っております。
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