サイエンス＆テクノロジー株式会社 7/5【セミナー】ドライエッチング：基礎
- 最終更新日：2018-05-03 20:42:49.0
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★ 大好評 累計第６回！ドライエッチング技術の基礎を学習！
★ 半導体デバイスの微細化・高集積化を実現するためのキーテクノロジーを徹底理解！
本セミナーは、長年半導体の製造現場に近い所で仕事をしていた講師の体験に基づいておりますので、実践的で密度の濃い内容になっており、入門としても、またドライエッチングのプロを目指す方にも最適な講座となっています。また、半導体材料メーカーのエンジニアの方々がドライエッチングの全体像を理解し、また自分たちの技術がどのように使われているのかを理解するのにも役立つセミナーです。
＜得られる知識・技術＞
・ドライエッチングのメカニズムから応用まで、難しい数式を使うことなく全容を理解することができる。
・ドライエッチングを支配するパラメータとその制御法が分かり、エッチングプロセスを組立てる上での指針を得ることができる。
・半導体の生産で実際に使われているドライエッチングプロセス・装置について学ぶことができ、実践的な知識が身に付く。
2日目の最新動向コース、2日間コースで受講する方は、お問い合わせください。
基本情報7/5【セミナー】ドライエッチング：基礎
日時：2018年7月5日（木） 13:00～16:30
会場：東京・大田区平和島 東京流通センター 2F 第1会議室
講師：ラムリサーチ(株) エグゼクティブ・フェロー 野尻 一男 氏
＜プログラム＞
１．はじめに ～半導体集積回路の発展とドライエッチング技術～
1.1 ドライエッチングの概要
1.2 LSIの高集積化にドライエッチング技術が果たす役割
２．ドライエッチングのメカニズム
2.1 プラズマの基礎
2.2 ドライエッチングの反応過程
2.3 異方性エッチングのメカニズム
2.4 エッチ速度
３．各種材料のエッチング
3.1 ゲートエッチング
3.2 SiO2エッチング
3.3 配線エッチング
４．ドライエッチング装置
4.1 CCPプラズマエッチャー
4.2 マグネトロンRIE
4.3 ECRプラズマエッチャー
4.4 ICPプラズマエッチャー
4.5 静電チャック
□質疑応答・名刺交換□
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カタログ7/5【セミナー】ドライエッチング：基礎
取扱企業7/5【セミナー】ドライエッチング：基礎
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1.技術図書・一般図書の出版 2.技術・研究者向け各種講習会の企画、開催 3.翻訳業務 ≪取扱いテーマ≫ ■新エネルギー、発電、省エネ ■電池・蓄電デバイス ■環境・資源 ■基盤技術・材料共通技術 ■樹脂・ゴム、高分子、複合材料 ■フィルム、プラ成形・加工 ■金属、ガラス、セラミックス、カーボン ■微粒子、ナノ材料 ■半導体、電気、電子、通信 ■光学、照明、表示デバイス ■表面・界面、接着、コーティング、表面加工 ■合成・プロセス化学 ■生産・製造施設、設備 ■分析、試験、測定、評価 ■特許・知的財産 ■法規制 ■新規事業 ■医薬品 臨床開発、開発薬事、製販後 ■医薬品 特許、知的財産、ライセンス ■医薬品 製品戦略、マーケティング ■医薬品 創薬、毒性、薬物動態、薬理 ■医薬品 品質、分析、CMC薬事、製剤 ■医薬品 製造、GMP ■医療機器 開発、薬事、製造 ■化粧品 開発、マーケティング、製造 ■バイオ
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