真空蒸着【試作から量産まで】カツラヤマテクノロジー

真空蒸着によるフッ素の表面処理の受託加工を試作から量産までお受けいたします。

カツラヤマテクノロジーの真空蒸着処理では膜厚10～20nmのフッ素薄膜を
金属やガラスに処理を行うことで基材表面に撥水性、撥油性、防汚性、離型性などの効果を付与させます。

効果確認用の小規模試作から実際の製品などで使用する為の量産までお受けすることが出来ます。

[特徴]
・処理する膜厚が10～20nmと非常に薄い膜となっており、金型などへ処理する場合に基材の寸法への影響を与えにくい
・深さ方向にはアスペクト比5まで対応(穴径1に対して深さ5)
・基材サイズ最大700mm□まで対応
・無色透明の薄膜で光学部品にも光学影響を抑えることが出来る

[主な採用実績]
・半導体封止用金型の離型処理
・導光板、偏光板用Ni電鋳スタンパ金型への離型処理
・業務用複写機の読み取り用ガラスへの防汚処理
・業務用インクジェットプリンターヘッドへの撥インク処理
・半導体研磨装置部品の防汚処理(スラリーの付着防止)

基本情報真空蒸着【試作から量産まで】

[注意事項]
弊社が使用しているフッ素材料は金属やガラスの基材表面と化学的に結合する構造となっており、
弊社へ支給時に既存のコーティング、錆止め材、樹脂皮膜などの汚れが付着しているとフッ素材料が密着せず、十分な機能を発揮できなくなりますので
支給時には汚れやその他コーティング等が基材の上に無い状態での支給をお願いします。

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用途／実績例	・半導体封止用金型の離型処理・導光板、偏光板用Ni電鋳スタンパ金型への離型処理・業務用複写機の読み取り用ガラスへの防汚処理・業務用インクジェットプリンターヘッドへの撥インク処理・半導体研磨装置部品の防汚処理(スラリーの付着防止)