株式会社電子化学 フォトマスク技術『クロムマスク』

丈夫で耐久性に優れた“クロム”によるフォトマスク加工!

当社では、高精度のパターンを生成(1μm±0.1μm)できる
フォトマスク技術『クロムマスク』加工を行っております。

高精度のため、円弧などのアナログ図形でも滑らかなパターンを生成可能。
大型・大判の基板(2000mm×2500mm)にも対応します。

また、丈夫で耐久性に優れるので、大量生産にもご利用頂けます。

【特長】
■高精度のパターンを生成可能(1μm±0.1μm)
■円弧などのアナログ図形でも滑らかなパターンを生成可能
■大型・大判の基板(2,000mm×2,500mm)にも対応
■クロムは丈夫で耐久性もあり大量生産にも利用可能

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基本情報フォトマスク技術『クロムマスク』

【その他のフォトマスク技術】
■エマルジョンマスク
■フィルムマスク

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カタログフォトマスク技術『クロムマスク』

取扱企業フォトマスク技術『クロムマスク』

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株式会社電子化学

■真空蒸着 ■薄膜エッチング ■フォトマスク ■ガラス加工 ■プラスチック加工 ■金属エッチング ■オリジナル商品開発

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