ワッティー株式会社 ALD(原子層堆積)装置

2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現 弊社の熱ソリューションを集約し最適な温度管理を実現

ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置
2inch~8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え
いたします。
また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の
設備導入負担を軽減します。
安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる
項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

▼お問い合わせ先
TEL:相模原事業所 042-704-5352
MAIL:info@watty.co.jp

基本情報ALD(原子層堆積)装置

【オプション例】
・プロセス排気用除外設備
・マニュアルハンドリングから自動搬送システムまで対応
・不活性ガス用ピュリファイア
・プリカーサボトルサイズの選択
・お客様の仕様にあわせカスタマイズ化
・低価格のALD装置仕様っもご用意

【装置概要】
・到達圧力(プロセス時):≦7Pa
・成膜温度:400℃(600℃対応ヒータ開発中)
・基本構成サイズ:2160×890×1940mm
プリカーサ本数:最大5本

【成膜応用事例】
Al₂O₃ TiO₂ HfO₂ ZrO₂ SiO2 Ta2O5 TiN Sin 他膜種も対応致します。

【ALD受託成膜サービス】
弊社、相模原事業部内のALD成膜装置を使用し、受託成膜を行っております。ご要望のプリカーサによる成膜をお手伝いさせていただきます。お客様立ち合いによるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータによる比較評価等、あらゆるニーズにお応えします。
成膜後の評価業務にもお応えいたします。
定期的な少量Lotでの受託生産にも応じますのでお気軽にお問合せください。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 各種、受託成膜
各種カスタマイズによりお客様の要望に合わせ成膜装置をご提供いたします
研究機関等に導入実績あり

取扱企業ALD(原子層堆積)装置

13_watty_img.jpg

ワッティー株式会社

センサー事業部ではフロートスイッチ、レベルスイッチ、レベルセンサなど 呼び方は様々ですが、液体の水位制御に最適な磁気式、光学式、電極式、 超音波式を応用した液面センサをご提案します。 熱システム事業部では主に半導体製造装置や医療器具向けの 高精度なヒータの設計・製作、ALD成膜装置の製造販売・受託作業等を行っております。 お客さまの希望に合わせた設計から生産までワッティーにお任せください。 【取扱製品】 ・窒化アルミ(セラミック)ヒータ ・シリコンラバーヒータ ・ポリイミドヒータ ・マイカヒータ ・カートリッジヒータ ・ヒートエクスチェンジャー(ガス加熱器) ・マントルヒータ(ジャケットヒータ) ・イージートレースヒータ ・テープヒータ ・シリコンベルトヒータ ・ヒータASSY ・ユニットASSY ・ALD(原子層堆積)装置 ・ALD受託成膜サービス​

ALD(原子層堆積)装置へのお問い合わせ

お問い合わせ内容をご記入ください。

至急度必須
ご要望必須

  • あと文字入力できます。

目的必須
添付資料
お問い合わせ内容

あと文字入力できます。

【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。

はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら

イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

ワッティー株式会社