有限会社渕田ナノ技研 ガスデポジション装置
- 最終更新日：2021-01-22 16:33:06.0
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低温成膜が可能なGD装置を多数ご用意しております！
当社では、ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから
対向する基材へ噴射堆積される『ガスデポジション装置』を
取り扱っております。
低温成膜が可能で、活性なナノ粒子の膜形成に利用いただけます。
ご要望の際は、お気軽にご相談ください。
【装置仕様例】
■ナノ粒子作製部
・高周波誘導加熱：5kw
■膜形成部
・ノズル径＆本数：φ0.3mm、1本
・基材駆動：X70mm×Y70mm×Z40mm Θ90度
■AGD機構付属
※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
基本情報ガスデポジション装置
【装置仕様例】
■ナノ粒子作製部
・高周波誘導加熱：30kw
■膜形成部
・ノズル径＆本数：φ1mm、1本
・基材駆動：X300mm×Y150mm×Z30mm Θ90度
■高純度Heガスリサイクルシステム付
※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。 |
カタログガスデポジション装置
取扱企業ガスデポジション装置
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■エアロゾル化ガスデポジション（AGD）装置の製造・販売 ・AGD；セラミックス微粉をガスと共に搬送しノズルから噴射させ 緻密な膜を常温で形成する装置 ■ガスデポジション（GD）装置の製造・販売 ・GD；金属ナノ粒子の高速噴射による、低温・マスクレスの 乾式直接描画装置 ■AGDおよびGDを使用した受託試作膜形成 ■ナノ粒子関連装置の製造・販売 ・メタル＆セラミックスナノ粒子、カーボンナノホーン、 カーボンナノチューブ、メタルフラーレンなど
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