有限会社渕田ナノ技研 エアロゾル化ガスデポジション（ＡＧＤ）装置
- 最終更新日：2021-01-25 14:28:14.0
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エアロゾル化ガスデポジション（ＡＧＤ）装置は、セラミックスの常温成膜装置です。
微粒子を密閉容器に入れてガスを導入し、エアロゾルを生成、巻き上げられた粒子は、ガスと共に搬送管を経て、ノズルより対向する基板へ噴射堆積されます。
ガス搬送過程において摩擦帯電されたセラミックス粒子の高速噴射により、
緻密なナノ粒子構造膜が形成される仕組みです。
【代表的な装置仕様】
ノズル幅＆本数：10mm 1本
基材駆動：50mm（一軸駆動）
成膜サイズ：10mm×50mm
※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
基本情報エアロゾル化ガスデポジション（ＡＧＤ）装置
【装置仕様例1】
ノズル幅＆本数：5mm 1本
基材駆動：50mm×50mm（二軸）
成膜サイズ：55mm×50mm
【装置仕様例2】
ノズル幅＆本数：30mm 1本
基材駆動：100mm×100mm（二軸）
成膜サイズ：130mm×100mm
【装置仕様例3】
ノズル幅＆本数：5mm 2本
基材駆動：50mm×50mm（二軸）
成膜サイズ：55mm×50mm
【装置仕様例4】
ノズル幅＆本数：5mm 3本
基材駆動：100mm×100mm（二軸）
成膜サイズ：MAX105mm×100mm
【装置仕様例5】
ノズル幅＆本数：5mm 4本
基材駆動：100mm（二軸）
成膜サイズ：MAX105mm×100mm
※詳細につきましてはお気軽にお問合せください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
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| 納期 | お問い合わせください |
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カタログエアロゾル化ガスデポジション（ＡＧＤ）装置
取扱企業エアロゾル化ガスデポジション（ＡＧＤ）装置
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■エアロゾル化ガスデポジション（AGD）装置の製造・販売 ・AGD；セラミックス微粉をガスと共に搬送しノズルから噴射させ 緻密な膜を常温で形成する装置 ■ガスデポジション（GD）装置の製造・販売 ・GD；金属ナノ粒子の高速噴射による、低温・マスクレスの 乾式直接描画装置 ■AGDおよびGDを使用した受託試作膜形成 ■ナノ粒子関連装置の製造・販売 ・メタル＆セラミックスナノ粒子、カーボンナノホーン、 カーボンナノチューブ、メタルフラーレンなど
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