ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。
シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。
研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。
基本情報SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4
・対応基板サイズ
小片 5×5mm~最大φ100mm
※100×100mm対応はオプション
・露光モード
コンタクトソフト, ハード, バキューム
ギャップ露光(1~300μm)
オプション:フラッド露光 分割露光
・露光光学系
波⾧
UV400 350~450nm
UV300 280~350nm
UV250 240~260nm
光源
光源水銀ランプ200W, 350W
水銀キセノンランプ500W
UV-LED ( i, h, g線対応)
面内照度均一性
標準:±4.0%(標準)
MO Exposure Optics:±2.5%(オプション)
・アライメント方式
TSAアライメント(表面アライメント)
赤外光透過アライメント(オプション)
・オプション機能
MO Exposure Optics
小片基板用対物レンズ
赤外光透過アライメント
モニター画像観察(デジタルカメラ仕様)
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
型番・ブランド名 | ズース・マイクロテック MJB4 |
用途/実績例 | MEMS アドバンスドパッケージ 3次元パッケージング 化合物半導体 パワーデバイス 太陽光発電 ナノテクノロジー ウエハレベルオプティクス |
カタログSUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4
取扱企業SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4
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・半導体及び電子部品製造・検査装置 お客様のご要望・プロセスに応じた各種装置を提案します。 一貫ラインなどターンキーソリューションのご提供も可能です。 ・関連機器・部品 サブシステムなど関連機器・部品において、お客様のご要望に沿ったきめ細やかなソリューションをご提供します。 ・関連消耗品・受託加工サービス 量産に効果的な消耗品のご案内、更にウエハー、セラミック・プリント基板等の受託加工サービスのご提供によりお客様をサポートします。 ・技術サポート 半導体関連装置、産業機器の設計・製造をはじめ生産ライン及び検査ラインの自動化、省力化等お客様のご要求に合わせたサービスをご提供しています。また、当社装置以外の自動化、安全化メンテナンス等お気軽にお問合せ下さい。
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