モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社 真空装置や半導体製造装置に使用する部品の高温真空熱処理
- 最終更新日:2022-01-18 17:40:28.0
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真空装置、半導体製造装置に使用する部品を真空中で高温処理します。プロセスの立上げ、工程時間の短縮に貢献します。
クリーンルーム中で真空チャンバを使いグラファイト、セラミックス、メタル部品などの脱ガス処理を行います。表面に付着したガスだけではなく、内部に浸透した水分なども除去できます。
【用途】
■真空装置、半導体製造用部品などの脱ガス
■グラファイト、セラミックスなどの脱ガス
■部品洗浄後の空焼き
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基本情報真空装置や半導体製造装置に使用する部品の高温真空熱処理
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用途/実績例 | ■真空装置、半導体製造用部品などの脱ガス ■グラファイト、セラミックスなどの脱ガス ■部品洗浄後の空焼き |
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