株式会社片桐エンジニアリング 高密度ラジカルソース『HDRS-114』
- 最終更新日：2021-10-06 11:59:09.0
- 印刷用ページ
より良いプラズマ源を実現させるため、プラズマ科学の基礎に立ち返ります！
『HDRS-114』は、高速結晶成長と高品質結晶成長を両立させる、超高真空の
用途に対応した高密度ラジカルソースです。
従来のラジカル源にはない、ハイブリッドプラズマ源を採用。
従来品比100倍のラジカル供給を達成しました。
当社オリジナルのハイブリッドプラズマ構造が高密度ラジカルを作り出します。
【特長】
■高速結晶成長と高品質結晶成長を両立させる
■超高真空の用途に対応したタイプ
■従来のラジカル源にはない、ハイブリッドプラズマ源を採用
■従来品比100倍のラジカル供給を達成（当社計測）
■当社オリジナルのハイブリッドプラズマ構造が高密度ラジカルを作り出す
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報高密度ラジカルソース『HDRS-114』
【ポイント】
■窒素分子が原子ラジカルになるプロセスを正しく理解する
→窒素分子をプラズマ状態に励起するには、約14evのエネルギーが必要
■正しく理解したプラズマ科学で、プラズマ源を見直してみる
→窒素分子をプラズマ状態に解離させる事にフォーカスすると、必要なエネルギー領域において、
ICPプラズマ源では電子が殆ど存在しないので、従来のプラズマ源では窒素分子を十分に
プラズマに出来ていない、と考えられる
■正しく理解したプラズマ科学を、プラズマ源に反映させる
→ICPとCCPをハイブリット化した、これまでにない新しいプラズマ源
■製膜に必要なラジカルの発生量を正確に測定して検証する
→成膜に重要な原子状ラジカル密度を計測・保証したプラズマ源
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
カタログ高密度ラジカルソース『HDRS-114』
取扱企業高密度ラジカルソース『HDRS-114』
-
-
○各種真空装置の開発・設計・製作・サービス ○半導体製造装置の開発・設計・製作・サービス ○一般機械装置の開発・設計・製作・サービス
高密度ラジカルソース『HDRS-114』へのお問い合わせ
お問い合わせ内容をご記入ください。
