ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば産総研監修のもとに、弊社が製作した装置です
ナノインプリント本体[モールドテーブルαβ調整モールド機構
高精度XYθウエハステージ
ウエハ湾曲機構及びXYステージ
アライメント顕微鏡×2
恒温恒湿器
イオナイザー
マスフローコントローラ×4(TFP、CTFP、窒素、ヘリウム)]
UV光源
デジタルカメラ
モールドサイズ：□22mm, □50mm, □75mm（有効は70～72mm角） （石英、厚み6.35mm台形）
ウエハサイズ： 8インチSiウエハ（厚み725um）、200mm角ガラス基板（厚み0.55~1.2 mm）
加圧力：10~250N(22mm角49N 0.1MPa, 50mm角250N 0.1MPa, 75mm角0.05MPa)
平行光のLED-UV光源（365nm Φ4インチ面積、10mJ/cm2以上）
アライメント精度： プリアライメント1μm以下(パターン検出/エッジ検出）、
精密アライメント100nm以下（モアレ検出）
アライメント用精密XYステージ：可動領域120×120mm、分解能10nm以下
アライメント用精密θステージ:可動域、分解能0.25秒以下(0.00007°以下)
基本情報【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー
掲載装置は参考例となっております。
類似品または全く新しい装置の作成に対応致しますので、先ずはお気軽にお問い合わせください。
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
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| 用途／実績例 | ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置 |
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