ギ酸還元リフロー装置【課題解決事例：フラックス残渣】ユニテンプジャパン

ユニテンプのリフロー装置で解決！還元ガスは金属表面の酸素と反応することで、酸化膜のない元の状態に戻す働きをします！

今までは、酸化膜を除去するためにフラックスを使っていましたが、これが
基板に残った状態（フラックス残渣）だと、やがて腐食して電気的な導通が
取れなくなる、はんだづけした部品が外れるなど故障の原因になっています。

最近は構造が複雑になり、洗浄液が行き渡っているのかという問題もあって、
フラックス残渣のリスクをなくせません。

当社では、ギ酸や水素などを使った「還元方式」でのはんだリフローに
対応しています。これならフラックスを使わずに酸化膜除去ができるので、
フラックス残渣が起こりませんし、もちろん洗浄工程も不要です。

【事例概要】
■課題
・フラックスを使っていたが、基板に残った状態（フラックス残渣）だと、
　故障の原因になっている
■解決方法
・還元方式のリフローでフラックスを使わずにはんだ濡れ性を確保
・ギ酸還元を選べば設備もランニングコストも手軽に、フラックスレス・
　洗浄レスでのはんだリフローを実現

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報ギ酸還元リフロー装置【課題解決事例：フラックス残渣】

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
用途／実績例	※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。