半導体製造プロセスの微量分析に活躍するイオンクロマトグラフィーサーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

半導体製造プロセスに関わる全ての方へ　迅速にプロセス汚染を特定する高い分離性能、確立された手法による分析事例をご紹介

半導体製造プロセスや完成したデバイスにとって、イオン汚染は腐食、浸食、短絡の原因となる恐れがあるため、大きな懸念です。
イオンクロマトグラフィー（IC）は、半導体業界におけるさまざまなプロセス汚染物質の微量成分と、主要成分を迅速に測定できる効率的な分析手法です。当社のイオンクロマトグラフィーシステムがどのように活用できるかをご紹介いたします。
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基本情報半導体製造プロセスの微量分析に活躍するイオンクロマトグラフィー

Thermo Scientific Dionex イオンクロマトグラフィーシステムは、自動溶離液生成（EG）、高圧（HPIC）、キャピラリー対応、4 μmカラムなどの革新的な機能を備え、高品質な結果を迅速にご提供いたします。

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用途／実績例	・溶離液ジェネレーターを使用した大量直接注入による高純度水に含まれる微量陰イオンの測定・マトリックス除去、濃縮を使用した有機溶媒に含まれる微量陰イオンの測定・試薬グレードの酸、塩基、塩、有機溶媒に含まれる微量遷移金属の測定・酸性銅めっき浴に含まれる塩化物の測定・電子部品の抽出物に含まれる微量陰イオン汚染の監視・燃焼イオンクロマトグラフィーを使用したポリエチレン材料に含まれる塩素、臭素、硫黄の測定