薄膜とは「はくまく」「うすまく」と呼ばれ、
一般的に膜の厚みがナノレベルのコーティング（被膜）を指します。
薄膜は、真空装置の中で膜にしたい材料（金属等）を蒸発させたり叩き出したりして形成されます。
『真空蒸着法』
真空蒸着法は、真空中で膜にしたい材料（金属等）を加熱して蒸発させ、
その蒸気（粒子）が対象物に到達し、堆積していくことで膜を形成する方法です。
真空蒸着法は、気化した材料がそのまま対象物に到達するため、
対象物のダメージが少なく純度の高い膜が形成できるのが特徴です。
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング・真空蒸着・P-CVD・スパッタによる、導電性、絶縁性、耐蝕性などの機能性薄膜の受託加工サービスを行っております。
様々な機能性薄膜を、試作から生産まで対応しております。
膜種・膜厚・成膜条件・対応基板(材質、サイズ、形状)への柔軟な対応と、35年の実績をもとに、マスキング成膜やメタルマスクでのパターン形成にも対応いたします。
お気軽にご相談下さい。
基本情報真空蒸着法
■対応膜種
金属膜：Al、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt など
積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr など
酸化膜：Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO など
窒化膜：AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN など
炭化膜：SiC、TiC、BC など
■最大搭載可能サイズ：800×1000mm ※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。
■対応可能基板
・Si Wafer
・ガラス
・フィルム
・セラミックス
・金属材
他
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