イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』プラズマ・サーモ・ジャパン

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実現

『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、
難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、
プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。

当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの
既存のシステムに設置する事も可能。

世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向上させ、寿命を
2倍以上に伸ばすことに成功しております。

【特長】
■均一性<2% 3σ(200mmウエハ)、スキャニングモーションを
　取り入れることにより<0.6% 3σも達成可
■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、
　Dual PBNは、他社の既存装置でも搭載可能
■当社のPVD、CVD等とのクラスター可が可能
■150mm、200mm

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基本情報イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

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用途／実績例	【用途】 ■エッチング：Ni、Fe、ScAIN、PZT、LTO、LNO ■成膜：光学コーティング、ボロメーター、MRAM、Nb、Magnetic Tranducer ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。