【資料】洗浄効果の立証はできていますか〜清浄度評価の課題〜ゼストロンジャパン

洗浄後評価が問われる時代に！外観検査以外の有効な分析手法などを掲載

当資料は、フラックス洗浄後の清浄度評価方法について解説しております。

既存の主流評価方法としては、信頼性評価をパスした後、実際の製造工程
ではAOIによる外観検査を行うことで、製品不良の可否を判断しており、
製品検査後において不良が生じてしまう事例が増加している現状があります。

このような事例の発生要因と、外観検査以外の有効な分析手法に関して
ご紹介しておりますので是非、ご一読ください。

【掲載内容】
■洗浄技術と同様に洗浄後評価が問われる時代に
■フラックス残渣成分の多様化
■複合化した成分の切り分けと分析手法
■今後の展望・洗浄の付加価値

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基本情報【資料】洗浄効果の立証はできていますか〜清浄度評価の課題〜

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用途／実績例	【こんな方におすすめ】 ■高い信頼性が要求されるワークの洗浄を行っている ■フラックス洗浄後は外観検査のみで評価をしている ■製品検査後に不良が発生してしまう事例を知りたい ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

取扱企業【資料】洗浄効果の立証はできていますか〜清浄度評価の課題〜

ゼストロンジャパン株式会社

弊社は下記用途の洗浄剤を取り扱っております。 1）電子基板 2）半導体後工程（パワーモジュール、フリップチップ・BGA） 3）メタルマスク、スクリーン 4）ディスペンサーノズル 5）試し刷り基板 6）パレット、リフロー炉部品、フラックス回収装置現在、日本では基板のフラックス洗浄は、未だ溶剤系の洗浄剤が使われております。欧米では環境対応の面から既に9割程度が水系に置き換わっており、環境改善を求める日本市場にて注目されています。 VOC規制の厳しい欧州での研究開発というところから、水系洗浄剤を得意としておりますが、溶剤系洗浄剤のラインナップもございます。