ゼストロンジャパン株式会社 【資料】洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化

洗浄技術も進化が問われている!どのような点が問題となっているかなどを掲載

当資料は、高機能化製品におけるフラックス洗浄ついて解説しております。

実際に洗浄プロセスを構築しようとした場合、どのような点が
問題となっているのか、歴史的な背景も踏まえてご紹介。

難溶性物質への対応力やソルダリングの洗浄の今後についてなどを
画像や図、詳しい解説を交えて掲載しておりますので、
是非ご一読ください。

【掲載内容(一部)】
■はじめに
■「洗浄」への認識 日本は特殊な環境
■難溶性物質の台頭
■難溶性物質への対応力(MPC洗浄剤)
■ソルダリングの洗浄の今後

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基本情報【資料】洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化

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用途/実績例 【こんな方におすすめ】
■日本におけるフラックス洗浄の動向を知りたい
■フラックス洗浄の課題と解決策を知りたい
■ソルダリングとフラックス洗浄の今後を知りたい

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カタログ【資料】洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化

取扱企業【資料】洗浄の新たな課題 洗浄方法の適正化

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ゼストロンジャパン株式会社

弊社は下記用途の洗浄剤を取り扱っております。 1)電子基板 2)半導体後工程(パワーモジュール、フリップチップ・BGA) 3)メタルマスク、スクリーン 4)ディスペンサーノズル 5)試し刷り基板 6)パレット、リフロー炉部品、フラックス回収装置 現在、日本では基板のフラックス洗浄は、未だ溶剤系の洗浄剤が使われております。 欧米では環境対応の面から既に9割程度が水系に置き換わっており、環境改善を求める日本市場にて注目されています。 VOC規制の厳しい欧州での研究開発というところから、水系洗浄剤を得意としておりますが、溶剤系洗浄剤のラインナップもございます。

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