【コ・ソルベント工程向け洗浄剤】ZESTRON CO 150 ゼストロンジャパン

HFE系洗浄剤と組み合わせ、水を使わない工程となる！残渣のない素早い乾燥を実現

『ZESTRON CO 150』は、超音波浸漬工程用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。

希釈せずに、HFE系洗浄剤との組み合わせでプレ洗浄、
もしくはコ・ソルベント用として使用可能。

特に電子部品、パワーモジュール、リードフレームベースの
ディスクリート部品から共晶・鉛フリー無洗浄はんだの
フラックス残渣を洗浄するのに適しています。

【特長】
■共晶・鉛フリーはんだに対し洗浄性が優れる
■ワイヤーボンディング・モールディングの品質が向上
■沸騰しにくい組成のため、安定した洗浄工程を提供できる
■工程管理における濃度管理範囲が広く設定できる
■冷却工程を安定させ、HFE消費量の最小化に貢献
■水を使用しないので、イオンコンタミ値を低く抑えることが可能

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報【コ・ソルベント工程向け洗浄剤】ZESTRON CO 150

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
用途／実績例	※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

取扱企業【コ・ソルベント工程向け洗浄剤】ZESTRON CO 150

ゼストロンジャパン株式会社

弊社は下記用途の洗浄剤を取り扱っております。 1）電子基板 2）半導体後工程（パワーモジュール、フリップチップ・BGA） 3）メタルマスク、スクリーン 4）ディスペンサーノズル 5）試し刷り基板 6）パレット、リフロー炉部品、フラックス回収装置現在、日本では基板のフラックス洗浄は、未だ溶剤系の洗浄剤が使われております。欧米では環境対応の面から既に9割程度が水系に置き換わっており、環境改善を求める日本市場にて注目されています。 VOC規制の厳しい欧州での研究開発というところから、水系洗浄剤を得意としておりますが、溶剤系洗浄剤のラインナップもございます。