溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴ゼストロンジャパン

イオン残渣見逃していませんか。フラックス洗浄の落とし穴について解説

様々な分野で使用されている有機溶剤は、現在の化学工業において
不可欠な存在であり、使用を完全に止めることは難しいのが現状です。

近年では各業界における技術躍進と企業努力により、有機溶剤の使用量・
大気排出量は大きく削減されてきていますが、日本の電子デバイスの
フラックス洗浄において、有機溶剤を主体とした洗浄剤が広く使われています。

しかし、フラックス洗浄は実質的に「複合物質残渣洗浄」へと変化しており、
溶剤系洗浄剤は、ロジンなどの有機成分に対しての有効性は非常に高いですが、
イオン性物質や難溶性金属塩をほとんど溶かすことはできないため、
「溶解」させる手法での除去は困難です。

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基本情報溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

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取扱企業溶剤系洗浄剤によるフラックス洗浄の落とし穴

ゼストロンジャパン株式会社

弊社は下記用途の洗浄剤を取り扱っております。 1）電子基板 2）半導体後工程（パワーモジュール、フリップチップ・BGA） 3）メタルマスク、スクリーン 4）ディスペンサーノズル 5）試し刷り基板 6）パレット、リフロー炉部品、フラックス回収装置現在、日本では基板のフラックス洗浄は、未だ溶剤系の洗浄剤が使われております。欧米では環境対応の面から既に9割程度が水系に置き換わっており、環境改善を求める日本市場にて注目されています。 VOC規制の厳しい欧州での研究開発というところから、水系洗浄剤を得意としておりますが、溶剤系洗浄剤のラインナップもございます。