ゼストロンジャパン株式会社 【フラックス洗浄後の分析サポート】ゼストロンの高解像度分析
- 最終更新日：2024-04-11 08:55:57.0
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一目ではわからない残渣が当社保有のマイクロスコープなら、はっきり見える！
当社が保有しているマイクロスコープを使った高解像度分析では、
残渣を見ることができる幅が広がりました。
一目ではわからない残渣が当社保有のマイクロスコープなら、
はっきり見えます。
また、他社で洗浄された基板の分析撮影も承ります。
【特長】
■残渣を見ることができる幅が広がった
■サンプル受領より、最短2日で結果をお知らせ
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報【フラックス洗浄後の分析サポート】ゼストロンの高解像度分析
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カタログ【フラックス洗浄後の分析サポート】ゼストロンの高解像度分析
取扱企業【フラックス洗浄後の分析サポート】ゼストロンの高解像度分析
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弊社は下記用途の洗浄剤を取り扱っております。 1）電子基板 2）半導体後工程（パワーモジュール、フリップチップ・BGA） 3）メタルマスク、スクリーン 4）ディスペンサーノズル 5）試し刷り基板 6）パレット、リフロー炉部品、フラックス回収装置 現在、日本では基板のフラックス洗浄は、未だ溶剤系の洗浄剤が使われております。 欧米では環境対応の面から既に9割程度が水系に置き換わっており、環境改善を求める日本市場にて注目されています。 VOC規制の厳しい欧州での研究開発というところから、水系洗浄剤を得意としておりますが、溶剤系洗浄剤のラインナップもございます。
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