【共同研究】活性剤の洗浄性低スタンドオフ部の残留性検証ゼストロンジャパン

リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因！洗浄ノウハウをご紹介

はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している
日本市場ではありますが、様々な課題が生じるケースが増加しており、
年々洗浄の需要は高まっています。

増加し続ける洗浄需要の背景の一つとして、イオン残渣への対応が
あげられます。

イオン残渣は、基本的に視認が難しい残渣であり、時間の経過とともに
さまざまな形態に変化する可能性があり、リーク電流の発生や絶縁抵抗性の
悪化に直接的に起因します。

※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。

基本情報【共同研究】活性剤の洗浄性低スタンドオフ部の残留性検証

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カタログ【共同研究】活性剤の洗浄性低スタンドオフ部の残留性検証

Technical Article　イオンとの共存共栄を目指すイオン残渣の課題と分析手法

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取扱企業【共同研究】活性剤の洗浄性低スタンドオフ部の残留性検証

ゼストロンジャパン株式会社

弊社は下記用途の洗浄剤を取り扱っております。 1）電子基板 2）半導体後工程（パワーモジュール、フリップチップ・BGA） 3）メタルマスク、スクリーン 4）ディスペンサーノズル 5）試し刷り基板 6）パレット、リフロー炉部品、フラックス回収装置現在、日本では基板のフラックス洗浄は、未だ溶剤系の洗浄剤が使われております。欧米では環境対応の面から既に9割程度が水系に置き換わっており、環境改善を求める日本市場にて注目されています。 VOC規制の厳しい欧州での研究開発というところから、水系洗浄剤を得意としておりますが、溶剤系洗浄剤のラインナップもございます。