【共同研究】イオン残留量の検証～フラックス種による相違～ゼストロンジャパン

困難さが増しているイオン残留課題について！洗浄ノウハウをご紹介

エレクトロニクス市場はEV車やロボット・通信技術の研究開発がますます
進んでおり、新たな接合技術であるシンターも本格的に量産稼働の動きが
見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。

今回のテーマであるイオンはドーピング工程やはんだペースト中の
活性剤などとして広く使用されており、電子デバイスにとっては不可欠な
存在となります。

また、最近の研究ではドーピング剤としてナトリウム・カリウムを
イオン性物質として使用する新型半導体の研究も進められており、
より活性力を高めた新たな活性剤の仕様も見受けられます。

※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。

基本情報【共同研究】イオン残留量の検証～フラックス種による相違～

※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。
※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。

価格帯	お問い合わせください
納期	お問い合わせください
用途／実績例	※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。

取扱企業【共同研究】イオン残留量の検証～フラックス種による相違～

ゼストロンジャパン株式会社

弊社は下記用途の洗浄剤を取り扱っております。 1）電子基板 2）半導体後工程（パワーモジュール、フリップチップ・BGA） 3）メタルマスク、スクリーン 4）ディスペンサーノズル 5）試し刷り基板 6）パレット、リフロー炉部品、フラックス回収装置現在、日本では基板のフラックス洗浄は、未だ溶剤系の洗浄剤が使われております。欧米では環境対応の面から既に9割程度が水系に置き換わっており、環境改善を求める日本市場にて注目されています。 VOC規制の厳しい欧州での研究開発というところから、水系洗浄剤を得意としておりますが、溶剤系洗浄剤のラインナップもございます。