マルチ真空プロセス装置
マルチ真空プロセス装置 http://www.ipros.jp/data/products/tmp/333480/003/img/multi vacuum process device.jpg センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な クラスター型複合プロセス装置 【特徴】 ○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止 ○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現 ○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現 ○独自開発の真空運搬ロボットを搭載 ○各室独立の真空排気系を装備 ○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載 ○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載 ○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 株式会社メープル 機械部品 > 油空水圧機器 > 油圧機器 -
  • 真空運搬ロボットを搭載したクラスター型複合プロセス装置
    株式会社メープル
    センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な
    クラスター型複合プロセス装置

    【特徴】
    ○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止
    ○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現
    ○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現
    ○独自開発の真空運搬ロボットを搭載
    ○各室独立の真空排気系を装備
    ○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載
    ○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載
    ○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備

    ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
  • マルチ真空プロセス装置の製品画像です
    マルチ真空プロセス装置の製品画像です

基本情報マルチ真空プロセス装置

センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な
クラスター型複合プロセス装置

【特徴】
○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止
○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現
○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現
○独自開発の真空運搬ロボットを搭載
○各室独立の真空排気系を装備
○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載
○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載
○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

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よく使用される業種

民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、試験・分析・測定、IT・情報通信

カタログマルチ真空プロセス装置

  • センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な
    クラスター型複合プロセス装置

    【特徴】
    ○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止
    ○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現
    ○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現
    ○独自開発の真空運搬ロボットを搭載
    ○各室独立の真空排気系を装備
    ○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載
    ○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載
    ○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備

    ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

取扱会社マルチ真空プロセス装置

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