株式会社メープル マルチ真空プロセス装置

マルチ真空プロセス装置 http://www.ipros.jp/data/products/tmp/333480/003/img/multi vacuum process device.jpg センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な クラスター型複合プロセス装置 【特徴】 ○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止 ○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現 ○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現 ○独自開発の真空運搬ロボットを搭載 ○各室独立の真空排気系を装備 ○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載 ○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載 ○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 株式会社メープル 機械部品 > 油空水圧機器 > 油圧機器 -
マルチ真空プロセス装置 製品画像

マルチ真空プロセス装置 製品画像

真空運搬ロボットを搭載したクラスター型複合プロセス装置

センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な
クラスター型複合プロセス装置

【特徴】
○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止
○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現
○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現
○独自開発の真空運搬ロボットを搭載
○各室独立の真空排気系を装備
○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載
○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載
○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

基本情報マルチ真空プロセス装置

センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な
クラスター型複合プロセス装置

【特徴】
○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止
○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現
○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現
○独自開発の真空運搬ロボットを搭載
○各室独立の真空排気系を装備
○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載
○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載
○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

価格 -
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発売日 取扱い中
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よく使用される業種 民生用電気機器、産業用電気機器、電子部品・半導体、試験・分析・測定、IT・情報通信

カタログマルチ真空プロセス装置

マルチ真空プロセス装置

マルチ真空プロセス装置 表紙画像

センターチャンバーの周辺にロードロック室を含め、全6室を搭載可能な
クラスター型複合プロセス装置

【特徴】
○センターチャンバーと各室間にゲートバルブを配置しコンタミを防止
○ゲートバルブをセンターチャンバー内に組み込み、省スペースを実現
○メインポンプをチャンバー上部に取り付け高メンテナンス性を実現
○独自開発の真空運搬ロボットを搭載
○各室独立の真空排気系を装備
○±3%の膜厚分布のスパッタ成膜ユニットを搭載
○最高1000℃まで昇温可能なランプアニールユニットを搭載
○φ300Siウエハーを13枚搭載可能なカセットロードロック室を装備

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

取扱企業マルチ真空プロセス装置

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株式会社メープル

マスフローコントローラ|ドライ洗浄装置|UV照射装置|エリプソメーター|超音波洗浄|真空装置|等の販売。

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