洗浄装置　ファインシリーズ洗浄ユニット『ファインソニック』プレテック

各種ウェハーの基板洗浄や各種フォトマスク、磁気ディスク等の洗浄に最適

ファインシリーズ洗浄ユニット『ファインソニック』は、サブミクロン以下のパーティクルを除去し、特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させ、ワークにダメージを与えません。多彩な周波数を選択可能（750/1000/1500/2000ｋHz）で、微細な出力調整ができ、1W刻みの安定した出力調整が可能です。最大出力がアップし、洗浄エリアの拡大が可能です。また、通信機能も強化され、発振器状態の監視、外部設定が可能になります。各種規格（FCC/CE/RoHS）にも対応しております。
詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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基本情報洗浄装置　ファインシリーズ洗浄ユニット『ファインソニック』

【特徴】
○ニーズに応えて、さらに進化したバッチ式高周波洗浄ユニット
○サブミクロン以下のパーティクルを除去
○特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させ、ワークにダメージを与えない
○外部信号により、８段階出力切替が可能
○信頼性の高いCPU制御で、シーケンサーなど外部機器との接続が容易
○均一な音圧を実現
○多彩な周波数を選択可能：750/1000/1500/2000ｋHz
○微細な出力調整：1W刻みの安定した出力調整が可能
○最大出力がアップし、洗浄エリアの拡大が可能
○通信機能も強化：発振器状態の監視、外部設定が可能（PT-150MV)
○各種規格対応：FCC/CE/RoHS

●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

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型番・ブランド名	ファインソニック
用途／実績例	【用途】 ○シリコンウェハー、GaAs等ミラー後のファイナル洗浄 ○半導体デバイスに於ける拡散前、イオン注入後、RCA洗浄 ○ウェハー用カセット（キャリア）の洗浄 ○各種フォトマスクの成膜前後の洗浄、ブランクス、レチクル洗浄 ○磁気ディスクの成膜前及びファイナル洗浄 ○液晶ガラス等の成膜前洗浄 ○各種ウエハー基板洗浄（シリコン、ポリシリコン、化合物半導体、石英ガラス） ○各種電子部品 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。