最終更新日2018-10-14 17:52:42.0

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【Nanofurnace】Model. BWS-NANO 卓上型熱CVD装置

テルモセラ・ジャパン株式会社

多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】

最終更新日2018-10-21 11:46:56.0

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SiC3コーティング グラファイト部品

テルモセラ・ジャパン株式会社

立方晶窒化珪素CVD-cubic coat【SiC3コーティング】カーボン

最終更新日2018-10-14 17:55:32.0

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【真空熱電対】

テルモセラ・ジャパン株式会社

各種真空規格フランジを接続し気密性を持たせたCVD装置などの真空装置内対象物測定用熱電対。

最終更新日2018-10-14 17:49:39.0

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【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置

テルモセラ・ジャパン株式会社

◎ 簡単にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能 ◎ 最大で30レシピ/30 stepの合成プログラムを作成、保存

最終更新日2018-10-14 18:21:55.0

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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

テルモセラ・ジャパン株式会社

小型実験装置シリーズ。モジュール組込み式の為都度必要な膜種に応じた専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型実験装置。

最終更新日2018-10-14 18:19:30.0

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【セラミック・トップ・ヒーター】真空成膜用_超高温基板加熱ヒーター Max1800℃_1inch〜φ800mm

テルモセラ・ジャパン株式会社

超高温Max1800℃。様々なプロセス条件に対応可能な基板加熱ヒーター。

最終更新日2018-10-14 17:46:38.0

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【SHシリーズ 基板加熱ヒーター】（Inc/BNプレート Max1100℃）

テルモセラ・ジャパン株式会社

◎ 最高温度1100℃（SH-BN）, 850℃（SH-IN） ◎ 優れた均熱性±2%以内・再現性±1℃ ◎ 低価格・短納期

最終更新日2018-10-14 17:26:28.0

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★nano BenchTopシリーズ 卓上型薄膜実験装置★_製品案内2017

テルモセラ・ジャパン株式会社

高機能・省スペース 最小サイズの卓上型薄膜実験装置シリーズを紹介致します。