半導体製造プロセスの微量分析に活躍するイオンクロマトグラフィー

半導体製造プロセスに関わる全ての方へ　迅速にプロセス汚染を特定する高い…

半導体製造プロセスや完成したデバイスにとって、イオン汚染は腐食、浸食、短絡の原因となる恐れがあるため、大きな懸念です。 イオンクロマトグラフィー（IC）は、半導体業界におけるさまざまなプロセス汚染物質の微量成分と、主要成分を迅速に測定できる効率的な分析手法です。当社のイオンクロマトグラフィーシステムがどのように活用できるかをご紹介...

メーカー・取り扱い企業： サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社／Thermo Fisher Scientific K.K.

イオンクロマトグラフィーシステム『IC-2010』

高速・高分離カラムを採用！高性能高速イオンクロマトグラフ

『IC-2010』は、高速・高分離カラムを採用し、ハイスループットを実現した 高性能高速イオンクロマトグラフです。 1試料“5分”の高速・高分離で、ハイスループット＆高速多検体処理を実現。 オートサンプラとサプレッサーを搭載し、連続多検体処理かつ高感度測定が 可能なほか、サンプルの自動希釈機能も搭載しています。 【特長】 ■最大250検体の連続多検体処理に対応 ■サンプル...

メーカー・取り扱い企業： 旭テクネイオン株式会社

自動試料燃焼装置『AQF-5000H』

安全かつ確実な燃焼！スケジュール管理による処理能力の向上

『AQF-5000H』は、燃焼イオンクロマトグラフィーによる試料中の ハロゲンと硫黄の同時測定が可能な自動試料燃焼装置です。 試料分解-イオンクロマトグラフ自動測定に加え、検量線溶液調製、 吸収液の希釈も自動化。 固体試料・液...

メーカー・取り扱い企業： 日東精工アナリテック株式会社