実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

半導体関連装置 「ウェット式エッチング装置」

ドラフト構造でクリーンルーム仕様！エッチング処理やレジスト除去する装置

塩化鉄）と、有機溶剤（アセトン）は付設の専用タンクへ一括排出します。 クリーンルームでも使用できるドラフト構造です。 【特徴】 ○薬液槽、及び純水槽にはＮ２ガス散気システムを装備 ○バブリングにより各液体の混合と高レベルの洗浄効果を発揮 ○薬液槽はすべてPVC製トレイ上に設置 ○アセトン槽にはSUS製トレイを設け、液ダレやオーバーフロー、 　排水への薬液混入に対処 詳しく...

メーカー・取り扱い企業： オーエヌ総合電機株式会社