平滑剤種による引張物性評価

めっき皮膜物性が不十分、ピットが見られる、平滑剤種の検討などに！

当社では、「平滑剤種による引張物性評価」を行っております。 ハーリングセル(浴量3L) 含リン銅陽極、電流密度 2A/dm2、90min、 室温(約25℃)、Airバブリングといった平滑剤種を検討。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【概要】 ■めっき皮膜物性が不十分(引張伸びが不足) ■ピットが見られる ■平滑剤種の検討 ■界面活性剤...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

ISO18782（JISL1952-1）収着発熱性測定装置

吸湿発熱性素材の表面温度変化を収録するために用いる試験機を取り扱ってお…

会社の取り扱う『収着発熱性測定装置(吸湿発熱)』について ご紹介します。 当製品は、吸湿発熱性素材の表面温度変化を収録するために用いる試験機で、 Dry(乾燥空気)とWet(加湿空気：バブリング)を切替えできる流路があり、 その流量を調節できる流量計を備えています。 また、試験条件下(Wet)における温度変化を自動でデータロガーに収録します。 【特長】 ■Dry(乾燥空...

メーカー・取り扱い企業： 早坂理工株式会社

高速高温加熱装置『IR-HP2-18』

最高加熱温度1400℃！金属やセラミックスの高速昇温、加熱・冷却サイク…

【仕様】※一部抜粋 ■加熱ゾーン：70×70×2tmm ■最高温度：1400℃（保持可能） ■昇温速度：50/sec(試料の熱容量によって異なる） ■炉内雰囲気：大気中、真空中、ガス中、バブリング中 ■対応オプション：均熱サセプター、急冷ノズル、自動運転 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社米倉製作所

在庫あり！調湿ガス供給装置『Humi Cruise』

温度5～85℃における湿度10～90％を無結露・高精度で制御。既設の分…

発生技術 　～体積法精密湿度発生における湿度制御概念からの脱却～ ◎光学セルの湿度測定/発生技術 　～分流式精密湿度発生における湿度制御概念からの脱却～ 【仕様】 加湿方法：飽和槽バブリング方式 加湿源：純水又は精製水 温度範囲 ：+5～+80℃ 温度安定性：±0．1℃以内（飽和槽内） 湿度範囲：10～90％rh　※ただし-36～+80℃DP以内 湿度安定性：±1％rh　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社第一科学

全自動運転に対応！調湿ガス供給装置『Humi Cruise』

結露防止機能で長時間運転を実現！供給用保温ホースとの一体化でコンパクト

PM装置、材料引っ張り試験の加湿試験 ◎燃料電池の評価試験 ◎細胞や有機物の低温高湿試験 ◎水分によって影響のある繊維・紙・毛髪を対象とした試験　…など 【仕様】 加湿方法：飽和槽バブリング方式 加湿源：純水又は精製水 温度範囲 ：+5～+80℃　※特注チャンバー（別売）により-10～+180℃も可能 温度安定性：±0．5℃以内（飽和槽内） 湿度範囲：10～90％rh　※た...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社第一科学

溶存酸素計（DO計）：本質安全防爆型プロセス用

防爆プロセス用溶存酸素計：国際規格“IECEx”およびヨーロッパ規格“…

。 コントローラーは非防爆エリアに設置する「3660EX」と、防爆DOセンサー・ コントローラー共に防爆エリアに設置することが可能な「3662EX」をご用意。 脱酸素プロセス(窒素バブリング、減圧など)におけるDOが、リアルタイムに モニタリング・コントロールできます。 【特長】 ■水はもちろん有機溶媒系、石油系サンプル中の溶存酸素(DO)を高精度に測定 ■適正な制御に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハック・ウルトラ

加湿洗浄ユニット　HCU-10

より高度なサンプリングバッグの洗浄が可能に！

サンプリングバッグクリーナーSBC-10のオプション製品になります。 バブリング方式で加湿したガスをサンプリングバッグに供給でき、 よりサンプリングバッグ内の不純物を取り除くことができます。...

メーカー・取り扱い企業： 京都理化学器械 株式会社 本社

ガス透過率測定装置RGP-1000(ガスクロ法)

膜研究には欠かせないガス透過率を測定する装置です。

●加湿ガスも透過試験可能です。加湿はバブラーでバブリングさせます。 ●使用に応じて、差圧式（差圧法）、フロー式（等圧法）を製作致します。 ●パソコンでガス透過係数・ガス透過度・水蒸気透過度（透湿度）の演算、タイムシーケンスの設定、各物理量（温度・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェイ・サイエンス・ラボ 本社

高温観察装置 SMT Scope ギ酸雰囲気加熱特注仕様

【ギ酸還元雰囲気下での加熱観察】パワー半導体の接合評価に！！　

『SMT Scope ギ酸雰囲気加熱特注仕様』は、狭ピッチでのマイクロバンプ接合やパワー半導体における、 ギ酸還元雰囲気下での試料の状態変化 ”その場観察”が行えます。 N2バブリングによるギ酸濃度1％～5％の間で任意に設定可能です。 加熱中の脱気によりボイドレスの実装が可能で、脱気タイミングが自由に設定できます。 【特長】 ■ギ酸濃度1％～5％の間で任意に設定可能...

メーカー・取り扱い企業： 山陽精工株式会社

小型装置｜開発装置｜試験装置のご相談は製造実績40年の当社まで！

小型装置のカスタム設計・製作に対応しています！お客様のご使用用途、ご要…

【開発装置事例】 ＜エッチング装置＞ ■ワークの裏面の処理方法をスプレー方式・ディップ方式にするなどご要望にお応え ■ディップ方式の場合、液中スプレー方式やバブリング方式を併用した実験機の製作実績もある ＜洗浄装置＞ ■各種オプション仕様を取り揃えており、お客様のご要望に合わせ、当社実績よりベストな洗浄機を提案 ■専用治具を製作することにより、複雑...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社NSC エンジニアリング本部