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8件 - カタログ
55件
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コーティング困難な凹凸デバイスへ、フォトレジストの薄膜塗布を可能とした…
凹凸立体形状のMEMSデバイスへ、フォトレジスト薄膜のコーティング試作をしています。数枚から大ロットまでフォトレジスト薄膜形成の試作をご提案しております。 凹凸・立体(3D)形状に対してのレジスト塗布方法に問題を抱え、お困りでしたら、是非...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エーシングテクノロジーズ 湘南藤沢研究所
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特許出願中 塗布重量自動計測システム付薄膜積層コーティング装置
特許出願中!微量な塗布重量を瞬時に計測し、管理できます。
llipseを目標に、LED向け蛍光体自動塗布ラインで培った塗布重量自動計測システム付 薄膜積層コーティング装置を燃料電池電極形成、次世代二次電池電極形成、MEMSを含むエレクトロニクス分野のフォトレジストコーティング等に展開いたします。 常温で反応し経時的に増粘する塗材や、沈殿が激しい不安定なスラーリー等のハンドリングが難しい塗材を、付加価値の高いLEDやLED部材等の被塗物へ塗布する方法と...
メーカー・取り扱い企業: エムテックスマート株式会社
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プラズマ処理装置(多目的プラズマエッチャー)
本装置は、平行平板型高周波プラズマにより、ポリイミド系樹脂・窒化膜等のエッチングやフォトレジストのアッシング(灰化除去)、表面改質等に有効な多目的枚葉式プラズマユニットです。 ウエハサイズ50〜200mm(2〜8インチ)、BGA・CSP等に対応しており、プラズマモードは、オペレーション...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー
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凹凸面対応のフォトレジストスプレーコーター装置『IS型シリーズ』
半導体・MEMS・センサーデバイスに最適! …
【コーティングの特長】 ■スピンコートで塗布可能な微細凹凸形状に、良好なコーティングが可能 ■ステップカバレッジの良好な薄膜コーティングが可能 ■100nm~100μmの膜厚形成が可能(フォトレジスト・FC触媒膜) ■効率75%と飛躍的に高い液使用効率(対比:スピンコートでは数%) ■数cc程度の少量の希少材料でもコーティングが可能 ■特殊間欠と筆安定塗布が可能(分散液・FC触媒液他...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エーシングテクノロジーズ 湘南藤沢研究所
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小型LED直接描画装置『マイクロライターML Family』
卓上小型!高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置
高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置です。 マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にし、パターン作製時に 毎回必要なマスク作製の手間を省きます。 フォトレジストに直接LEDで描画することが可能です。 【特長】 ■卓上小型(底部面積70cm×60cm) ■高速でパターン試作を可能 ■毎回必要なマスク作製の手間を省く ■フォトレジストに直接...
メーカー・取り扱い企業: 日本カンタム・デザイン株式会社
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フットプリント・購入コストの大幅低減とスループットUp・基板品質大幅向…
DF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、レジスト剥離装置、レジスト塗布装置、洗浄装置、メガソニック、フォトレジスト、フォトリソ工程...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ソフエンジニアリング
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サブストレート(ウエーブ)形状に対応した薄膜から厚膜のコーティングをご…
特殊アトマイジング方式により、適した微小粒子を積層コーティング。 また、貴重サンプル液が数ccでもコーティング可能です。 【特長】 ■0.01μm~100μm(程度)の膜厚形成可能(フォトレジスト・FC触媒膜) ■特殊間欠塗布で安定塗布可能(テフロン分散液・FC触媒液・撥水膜他) ■塗布不可能な微細凹凸形状に、良好なコーティング可能 ■数CC程度の少量でもコーティング可能 ■カ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ミックラボ 本社
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セミオートSPINDipスピン枚葉装置 リフトオフ・レジスト剥離
《新型》社内デモ機でさまざまなサイズや基板種、デバイスパターン状態に対…
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、枚葉基板洗浄機、枚葉スピン洗浄機、表面処理、薄ウエハ、絶縁膜、高圧ジェット洗浄機、基板クリーニング装置、ロードロック室、ガラス搬送、ガラス基板、ウエハ洗浄機...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ソフエンジニアリング
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