• 薬液供給装置(連続式) P112 製品画像

    薬液供給装置(連続式) P112

    PRプロセス装置に連続で薬液を供給

    本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト

  • ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • パッケージングプロセスシステム 製品画像

    パッケージングプロセスシステム

    お客様が希望されるパッケージングプロセスデザインに好適な提案をいたしま…

    当社では、Besi社のパッケージングプロセスシステムを取り扱っています。 モジュールベースの装置と共通ソフトウェアプラットフォームにより、 カテゴリーの枠を超えた製造ライン設計も可能。 お客様が希望されるパッケージングプロセス...

    メーカー・取り扱い企業: Woyton Technologies株式会社

  • 半導体テスタ レーザクリーニングシステム 製品画像

    半導体テスタ レーザクリーニングシステム

    ロジック用レーザクリーニングシステム!プローブカードクリーニング可

    ロジック用 レーザクリーニングシステムIMT800MV <<<< 特徴 >>>> □ ブラッシング、ケミカルクリーニング不要  ■ クリーニングプロセスへの移行が短時間で可能 □ クリーニング後の廃棄物・臭気がありません ■ ソケットピン表面のダメージ、   不完全クリーニング排除による能力向上 ロジック用ならでは。 ● マニュアル...

    メーカー・取り扱い企業: サマック株式会社

  • 半導体封止樹脂“モールドレーザクリーナ” 製品画像

    半導体封止樹脂“モールドレーザクリーナ”

    半導体封止樹脂モールド専用 “モールドレーザクリーナ”

    ルドセット/30分以内) ■ モールド装置のダウンタイム削減 □ 低メンテナンスコスト ■ クリーニング後の廃棄物・臭気がありません □ 作業者への危険性がありません ■ 完全自動プロセス □ モールドへのダメージなし ...

    メーカー・取り扱い企業: サマック株式会社

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