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高速高解像度レーザー露光装置
『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、B...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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材料が熱的な損傷を受けない!フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形…
『MPF-330』は、フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置です。 750~900nmの超短パルスレーザー光を励起光源として用いることにより、 紫外~可視領域に吸収を持つ物質の2光子励起が可能です。 従来の高出力レーザーによる光造形より高空間分解能で、 ナノスケールの光造形ができます。 【特長】 ■フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置 ■紫外~可視領域に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フォトサイエンス
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