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PLAD-221-Y PLDシステム
21-Y PLDシステムはNd:YAGレーザを用いたPLDです。 独自の回転式SiC基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは20mm径を4個有し、自転および公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-271PE PLDシステム
ザショット数、ターゲット切替等々)を簡易に行えます。 独自の回転式SiC基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは20mm径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-250R PLDシステム
ョット数、ターゲット切替等々)を簡易に行えます。 独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で800度以上の加熱が行えます。 ターゲットは1 inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-261PG PLDシステム
ショット数、ターゲット切替等々)を簡易に行えます。 独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは1inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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