『JPCA Show 2024』に出展のご案内

PR電子回路業界及び関連業界全体の発展に寄与する展示会に出展します！

株式会社アインは、東京ビッグサイトで開催される『JPCA Show 2024』に 出展します。 当展示会は、様々な電子・情報通信・制御機器に使用される 電子回路・実装技術や、新しいコンテンツとソリューション等を展示。 当社はパワーデバイス用の厚銅セラミックス基板「AMB基板」及び、 メッキ法を用いたセラミックス配線基板「DPC基板」を展示予定です。 皆様のご来場を心よりお待...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイン 本社工場

アルミベース基板【アルミのGND化でノイズ・熱対策】

PRアルミ部のGND化を実現！アルミ部の利用度や設計の自由度が向上します

アルミベース基板というと基板材料メーカーから発売しているアルミの上にあらかじめ絶縁体がついているものが主流です。しかし、それだとアルミの厚さや基板部分の誘電率が既存のラインナップの中からしか選ぶことができず、設計に制限がありました。 そこで弊社では基材とアルミを貼り合わせる独自の製法を用いて、ご要望の基材とアルミでアルミベース基板を作ることを可能にしました。 これにより設計の自由度が格...

メーカー・取り扱い企業： 共栄電資株式会社

リニアPECVDプラズマ源

物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…

『リニアPECVDプラズマ源』は、標準的な静電容量結合プラズマ電極に類似した 製品です。 インラインダイナミックモードで動作しており、基板、キャリア、または ウェブは絶えず電極を通過し、連続的に製膜されています。 CCP CVDを用いる静止モードで大型の基板を均一に製膜するという機械的、 電気的な大規模作業が求められる場合で...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

ホローカソードソース『HCS』

プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理…

ーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを 実現。高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより 低廉です。 【特長】 ■ホローカソード設計、基板に依存しない ■高い電子密度とイオン化効率がラジカルの高密度を促進 ■表面クリーニング、活性化、エッチング目的のスケーリング可能なイオン源 ■薄膜のコーティングにも特定の部品設計により適用可能...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社