REACH規制適合『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』

PR耐摩耗性・耐食性・耐焼付性などを向上。実績資料を進呈

『塩浴軟窒化処理技術(CLINプロセス)』は、熱化学的に軟窒化＋酸化を 施す技術で、塩浴中の窒素と少量の炭素で鉄素材表面を強化します。 REACH規制に適合するなど環境負荷が低く、クロムめっきの代替などにも活用可能。 ガススプリングや油圧シリンダー、ブレーキピストンなど様々な製品の 耐摩耗性・耐焼付性・耐食性・疲労強度の向上に貢献します。 クロムめっきからの代替実績を紹介した解説...

メーカー・取り扱い企業： HEF DURFERRIT JAPAN株式会社

エレベーター監視盤の設計・製作

PRエレベータ等の社会インフラを支える監視盤メーカとして、豊富な知見を活か…

エレベーターの状態（現在位置や運転の方向など）を表示する表示盤と地震や火災などが発生した場合にエレベーターを安全に停止させるための指令を発信する管制機能等が付いた監視盤を設計・ 製造。 大手エレベーターメーカー様と長年に渡り、直接取引をさせていただいております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業： 石田テクノプロダクツ株式会社 本社

【パッケージ】9インチマスクで1ミクロンを作りたい

大手パッケージメーカーへの納入実績あり！大きなサイズのマスクに対応して…

、繊細なパターンニングになるほど フイルコン製フォトマスクが生かされます。 【特長】 ■迅速な納期対応が可能 ■9インチマスクの精度は世界最高レベル ■大きなサイズのマスクに対応 ■大手パッケージメーカーへの納入実績あり ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 日本フイルコン株式会社

マスク洗浄機｜全自動マスク洗浄装置「TWC-200A」

マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去

-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。 本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。 特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。 オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。 危険な薬品に曝される事も無く安...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

SMIF POD（マルチ／シングルタイプ）「SEMI規格準拠」

徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取…

べて、剛性、耐久性が強化されています。 ■低発塵、洗浄しやすいライナーレス設計 　・365nm, 248nm, 及び193nmのレチクル使用可能（プラスティックにリン酸添加物の含有無し） ■大手露光装置メーカーにより認可済 ■超音波洗浄及び純水洗浄装置に適合 ■温風ノズル、放射式真空乾燥オーブンに適合 ■乾燥時の最高温度: 60℃（均一） 使用時温度：18℃～30℃ ※国内...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

【半導体】量産向け半導体用レチクルが欲しい

熟練した技術スタッフが特殊なご要望にもチャレンジ！EBデータでもGDS…

います。 この業界では、コスト競争力が一層と必要とされるということを、 私たちは十分理解しています。お客様のものづくりのパートナーとして、 是非一度お声かけください。 【特長】 ■大手半導体メーカーへの納入実績が多数ある ■コスト競争力がある ■高性能描画機と検査装置を揃えている ■熟練した技術スタッフが特殊なご要望にもチャレンジ ■EBデータでもGDSIIでも受付ができ...

メーカー・取り扱い企業： 日本フイルコン株式会社