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速乾で仕上りキレイな洗浄剤『アサヒクリンAE‐3000シリーズ』
PRモノづくりで重要な洗浄工程でお困りの方に朗報!乾燥時間の短縮、乾燥温度…
オゾン破壊係数0!不燃性で乾燥性のよいフッ素系の溶剤です。 ★次の問題は、AE-3000 / AE-3100Eで解決! ・乾燥や冷却に時間がかかる ・乾燥シミが残って歩留まりが下がる ・商品が錆びる ・廃液が多い ・可燃物の使用量が多い ・水シミが残って美観が損なわれる ・効率よく水分除去できる乾燥工程がほしい 【特 長】 ・乾燥性:適度な沸点で蒸発潜熱が小さく乾燥性に...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』
PR『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…
「地球」を考える「化学」の時代。AGCが提案する新製品!フッ素系溶剤『AMOLEA(アモレア)AS-300』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数(GWP)1未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…KB値48の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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半導体や液晶などの電子材料製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤…
半導体製造プロセス用洗浄剤、フォトレジスト、反射防止膜などへのご使用ニーズにおいて、脱メタル、金属除去、汚染リスク低減のご要望にお応えする薬液です。 ・金属含有量 500 ppt以下の製造実績多数有り ・品目多数、当社製品のほかご指定の化学構造もご相談ください ・受託蒸留も承ります ・品目、金属規格値、純度等ご相談下さい ・国内生産、BCP、リファイン等ご相談下さい ※カタログ...
メーカー・取り扱い企業: 日本乳化剤株式会社 界面活性剤、グリコールエーテル、アミン、イオン液体
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半導体、液晶の製造プロセス薬剤『グリコールエーテル・アミン』
【サンプル進呈】半導体、液晶などの電子材料製造プロセス薬剤のメタルフリ…
■グリコールエーテル 低金属管理された高品質グリコールエーテルは、半導体や液晶などの製造プロセスにおいて、フォトレジスト、剥離剤、洗浄剤、エッチング剤などの溶剤として広く利用されています。当社は各金属を数ppbレベルに管理した高品質なグリコールエーテルを豊富に取り揃えており、構造や沸点を広範囲で選択可能です。また、原料調達、合成、蒸留を一貫して行いトレーサビリティの体制を整えることで電子材料業界...
メーカー・取り扱い企業: 日本乳化剤株式会社 界面活性剤、グリコールエーテル、アミン、イオン液体
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