独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

高速同期撮像スターターキット

高速同期撮像を容易に実現可能！ハード、ソフト、アルゴリズムが含まれてい…

鋳物の刻印検査、光沢物の文字検査、柄付き表面の刻印・打痕検査、 微細傷の検査など、検査が難しかったワークに対して”高速同期撮像”を 採用することで、欠陥を明確にすることができます。 レイマックでは、高速同期撮像を容易に実現可能とするための 『高速同期撮像スターターキット』を取り扱っております。 セットにはハード、ソフト、アルゴリズムが...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社レイマック 本社