• 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • 最新!熱設備の脱炭素・低炭素化技術のご紹介【展示会出展】 製品画像

    最新!熱設備の脱炭素・低炭素化技術のご紹介【展示会出展】

    PR水素ガスバーナー最新ラインナップや低炭素設備をご紹介!【サーマルテクノ…

    【展示会情報】 工業炉と関連機器の製品・技術展示会およびセミナー発表と講演会で構成する関西からの情報発信イベント” サーマルテクノロジー2024に出展いたします。 日時:2024年10月10日(木)11日(金)10:00 ~ 17:00 会場:グランフロント大阪 北館 B2F 【最新!水素ガスバーナーラインナップ】 二酸化炭素を排出しない水素燃焼!SHOEIでは実績のある自社製バー...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社正英製作所 本社、東京支店、名古屋営業所、大阪支店、広島支店、九州支店

  • 銅表面処理剤 アデカテックCA-1、テックCL-8 製品画像

    銅表面処理剤 アデカテックCA-1、テックCL-8

    銅の表面処理を施し、様々な機能を付与することで各種レジスト材料との密着…

    <アデカテックCA-1> 過酸化水素が主成分である銅箔化研処理剤です。硫酸との混合比を変えることで削り量と粗さを変えることができるため、複数の工程用途に対し柔軟に対応することができます。また、低化研量域においてもドライフィルムレジスト...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ADEKA

  • ECRアトムソース 製品画像

    ECRアトムソース

    低圧動作のECR型アトムソース

    ECR励起プラズマ中からアトムフラックスを生成します。低圧動作特性に優れたECR方式のアトムソースです。フィラメントレス構造のこのアトムソースは窒素、水素、酸素などのガス種からのアトムフラックスの生成が可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: アドキャップバキュームテクノロジー株式会社

  • 半導体材料 高純度エッチングガス 製品画像

    半導体材料 高純度エッチングガス

    半導体・FPD・光通信の各分野の発展に貢献、業界トップシェア

    、容器洗浄整備技術、クリーンな作業環境の維持等々、品質管理においては広く認められ、業界トップシェア 【ラインナップ】 ○アデカ高純度液化塩素 →半導体、液晶パネル ○アデカ高純度液化臭化水素 →半導体 ○アデカ高純度三塩化ホウ素 →半導体 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ADEKA

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